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【法人基本情報】

法人基本情報（3情報）

法人基本情報（３情報）に掲載の内容は 法人番号公表サイト から取得しています。
法人番号
1120001030999
法人名
誠南工業株式会社
法人名ふりがな
せいなんこうぎょう
法人名英語
本店所在地
大阪府大阪市住之江区北加賀屋４丁目３番２４号

法人基本情報（その他）

代表者名
代表取締役　亀井　龍一郎 (職場情報総合サイト)
資本金
 
従業員数
22人 (職場情報総合サイト)
企業規模詳細
男性：18人、女性：4人 (職場情報総合サイト)
設立年月日
1960年04月13日 (全省庁統一資格)
創業年
1948年 (職場情報総合サイト)
全省庁統一資格
資格の種類 資格等級 営業品目
物品の製造 C 精密機器類、医療用機器類、その他機器類
物品の販売 C 精密機器類、医療用機器類、その他機器類
役務の提供等 C 写真・製図、調査・研究、その他
全省庁統一資格とは、各省庁における物品の製造・販売等に係る一般競争（指名競争）の入札参加資格（全省庁統一資格）です。 詳細についてはデジタル庁の 全省庁統一資格HP をご参照ください。

事業概要
真空装置・研究開発用装置の開発・設計・製造 およびそれに関わるサービス (職場情報総合サイト)
企業ホームページ
http://www.seinan-ind.co.jp/ (職場情報総合サイト)

【法人活動情報】

※財務情報は EDINET の有価証券報告書から日次取得しています。「N/A」は取得した有価証券報告書から情報が特定できなかった場合の表記ですが、有価証券報告書にて情報が確認できる場合があるため必要に応じてご確認ください。また、gBizINFOにおけるチェックにより取込み非適合となる場合などでEDINETが開示している有価証券報告書より決算期が古い場合もあります。最新の情報や漏れなく情報を必要とする場合においては EDINET の有価証券報告書を閲覧してください。


提出会社の経営指標等の推移

回次 4期前 3期前 2期前 1期前 当期

大株主の状況

氏名又は名称 発行済株式（自己株式を除く。）の総数に対する所有株式数の割合（%）

決算情報は、官報掲載情報のうち、gBizINFOでの情報公開を許諾された法人のものに限って掲載しています。
なお、官報については国立印刷局HPにおいて提供している、 「インターネット版官報」及び 「官報情報検索サービス」 でご確認ください。

決算情報

認定日 届出認定等 対象 部門 企業規模 有効期限 府省

※備考に間接と表記がある場合は間接補助金情報を示します。間接補助金情報の場合、認定日は金額が無い場合は採択日、金額がある場合は交付決定日を表示します。
認定日 補助金等 金額 対象 府省 備考
- 令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「次世代核酸創薬開発を加速させるデリバリーナノ粒子の製造システムの確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 - - 経済産業省 -
- ［第五回］令和２年度事業再構築補助金（交付申請等） 40,000,000円 - 中小企業庁 jGrants
- 令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（液体原料ガスを用いたミニマルファブ用プラズマ援用多結晶シリコン気相成長装置の開発） - - 経済産業省 -
- 平成２９年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（継続事業）（ヘリコン波プラズマ技術を用いたミニマルファブ用超高速マルチスパッタ装置の開発） - 中小企業経営支援等対策費補助金 経済産業省 -
- 令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（液体原料ガスを用いたミニマルファブ用プラズマ援用多結晶シリコン気相成長装置の開発） 2,706,289円 - 経済産業省 間接
- 令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 - - 経済産業省 間接
- 令和３年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「次世代核酸創薬開発を加速させるデリバリーナノ粒子の製造システムの確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 2,599,916円 - 経済産業省 -
- 令和３年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 25,593,162円 - 経済産業省 間接
- 令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（反応性ヘリコン波プラズマプロセスを用いたミニマルファブ用ＭＥＭＳ向け高速エッチャーの開発） 2,706,202円 - 経済産業省 間接
- 平成２９年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（継続事業）（マイクロ波励起プラズマを用いた低ダメージ薄膜形成用ミニマル装置の開発） - 中小企業経営支援等対策費補助金 経済産業省 -
- 令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 23,209,316円 - 経済産業省 間接
- 令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「次世代核酸創薬開発を加速させるデリバリーナノ粒子の製造システムの確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 - - 経済産業省 間接
- 平成２９年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（準共鳴型電子サイクロトロン共鳴技術に基づく小型・高密度プラズマ源と、これをコア技術とする３ＤＩＣ作製を目的とした高速ミニマルエッチング装置の開発） - 中小企業経営支援等対策費補助金 経済産業省 -
2020年04月01日 令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（植物成長促進による植物工場の生産性向上を実現する照射環境制御型プラズマ援用種子処理装置開発） 3,202,661円 - 経済産業省 -
2019年06月04日 令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 - - 経済産業省 間接
2019年04月01日 平成３１年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（植物成長促進による植物工場の生産性向上を実現する照射環境制御型プラズマ援用種子処理装置開発） 3,179,698円 - 経済産業省 -
2019年04月01日 平成３１年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（継続事業）（反応性ヘリコン波プラズマプロセスを用いたミニマルファブ用ＭＥＭＳ向け高速エッチャーの開発） 2,723,162円 - 経済産業省 -
2019年04月01日 平成３１年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（植物成長促進による植物工場の生産性向上を実現する照射環境制御型プラズマ援用種子処理装置開発） - - 経済産業省 間接

受注日 事業名 金額 府省 連名
2017年10月19日 真空蒸着装置 1,771,200円 防衛省 -
2016年09月13日 制御装置修理１式 1,049,760円 防衛省 -

年月日 表彰名 受賞対象 部門 府省

※職場情報は職場情報総合サイトから日次取得しています。実際に職場情報総合サイトが開示している内容とタイムラグが生じている場合があるため、最新の情報が必要な場合は職場情報総合サイトを閲覧してください。項目についての説明は用語説明を参照してください。

勤務基本情報

平均継続勤務年数（男女別）
正社員の平均勤続年数
従業員の平均年齢
月平均所定外労働時間

女性の活躍に関する情報

労働者に占める女性労働者の割合
女性管理職人数
管理職全体人数（男女計）
女性役員人数
役員全体人数（男女計）

育児・仕事の両立に関する情報

育児休業対象者数（男性）
育児休業対象者数（女性）
育児休業取得者数（男性）
育児休業取得者数（女性）

【その他】

出典元 データ取得日 データ更新日
法人番号システム 2024年05月09日 2022年12月13日
全省庁統一資格 2024年05月09日 -
職場情報総合サイト 2020年11月24日 -
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