回次 | 4期前 | 3期前 | 2期前 | 1期前 | 当期 |
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氏名又は名称 | 発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(%) |
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決算情報 |
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認定日 | 届出認定等 | 対象 | 部門 | 企業規模 | 有効期限 | 府省 |
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認定日 | 補助金等 | 金額 | 対象 | 府省 | 備考 |
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2010年01月01日 | 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 | 7,209,300円 | 本研究開発の目的は、情報家電における液晶パネル・半導体デバイス等薄膜形成等の製造装置に用いられる真空計について、歩留まり改善等の生産性向上、低価格、長寿命化等の生産コスト低減、高機能化、高性能化、耐食性の向上等生産設備の最適化に対応する高度化された真空計の開発を目的とする。 | 経済産業省 | - |
2010年01月01日 | 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 | 600,000円 | 精密加工機械、半導体加工装置、ロボットなどの機械・装置において小型化、高精度化、高速化という課題及びニーズは大きい。これらの課題及びニーズに対応するため、これら機械・装置のメカニズムの「位置決め」に使用する「超小型・高精度・高速応答変位計測エンコーダ」を独創的な構造を考案して実現し光MEMS技術を用いて開発・実用化する。 | 経済産業省 | - |
受注日 | 事業名 | 金額 | 府省 | 連名 |
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年月日 | 表彰名 | 受賞対象 | 部門 | 府省 |
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出典元 | データ取得日 | データ更新日 |
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法人番号システム | 2025年04月06日 | 2019年01月24日 |
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