資格の種類 | 資格等級 | 営業品目 |
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物品の製造 | A | 一般・産業用機器類、電気・通信用機器類、電子計算機類、精密機器類、その他 |
物品の販売 | A | 一般・産業用機器類、電気・通信用機器類、電子計算機類、精密機器類、その他 |
役務の提供等 | A | その他 |
回次 | 4期前 | 3期前 | 2期前 | 1期前 | 当期 |
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氏名又は名称 | 発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(%) |
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決算情報 |
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第56期決算公告 2023年3月27日 |
第55期決算公告 2022年3月25日 |
認定日 | 届出認定等 | 対象 | 部門 | 企業規模 | 有効期限 | 府省 |
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- | PRTR | 電気機械器具製造業 | 経済産業大臣 | - | - | 経済産業省 |
認定日 | 補助金等 | 金額 | 対象 | 府省 | 備考 |
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2011年01月01日 | 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 | 22,497,300円 | 本研究では、フラットパネル・半導体産業でキーとなっているスパッタ・CVDなどのプロセスにおいて高度な真空制御を行うための全く新しい原理による高信頼・高精度の全圧/分圧真空計を開発することを目的としている。 | 経済産業省 | - |
2010年01月01日 | 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 | 29,997,450円 | 本研究では、フラットパネル・半導体産業でキーとなっているスパッタ・CVDなどのプロセスにおいて高度な真空制御を行うための新原理ラムダ方式の真空計を開発する。 | 経済産業省 | - |
2009年01月01日 | 地域イノベーション・基盤技術高度化促進委託費 | - | 本研究では、フラットパネル・半導体産業でキーとなっているスパッタ・CVDなどのプロセスにおいて高度な真空制御を行うための新原理ラムダ方式の真空計を開発する。 | 経済産業省 | - |
受注日 | 事業名 | 金額 | 府省 | 連名 |
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2021年11月16日 | 省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業半導体製造装置の高度化に向けた開発次世代不揮発性メモリ向け成膜装置の開発 | 436,582,300円 | 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構 | - |
年月日 | 表彰名 | 受賞対象 | 部門 | 府省 |
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- | 女性の活躍推進企業 | - | - | 厚生労働省 |
出典元 | データ取得日 | データ更新日 |
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法人番号システム | 2024年05月18日 | 2021年04月02日 |
全省庁統一資格 | 2024年05月18日 | - |
職場情報総合サイト | 2024年02月23日 | - |
EDINET | - | - |