| 2020年04月01日 |
令和2年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(ミニマルレーザ水素アニール装置と原子レベルアンチエイリアス(AAA)技術の研究開発) |
22,383,027円 |
- |
経済産業省 |
-
|
| 2019年04月01日 |
平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(ミニマルレーザ水素アニール装置と原子レベルアンチエイリアス(AAA)技術の研究開発) |
19,433,042円 |
- |
経済産業省 |
-
|
| 2019年04月01日 |
平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(ミニマルレーザ水素アニール装置と原子レベルアンチエイリアス(AAA)技術の研究開発) |
- |
- |
経済産業省 |
連名
|
| 2017年04月03日 |
平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(微小立体構造からなるセンサーの試作開発期間短縮と多品種少量生産を可能とする、世界初の両面アライメント機能付きミニマルマスクレス露光装置の研究開発) |
0円 |
中小企業経営支援等対策費補助金 |
経済産業省 |
-
|
| 2017年04月03日 |
平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(ミニマル水プラズマアッシング装置の開発) |
12,299,000円 |
中小企業経営支援等対策費補助金 |
経済産業省 |
-
|