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J-PlatPat
法人番号が特定できたデータのうち、過去１０ヵ年分（特許出願日が2013年～2022年）までを収録
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クラスタイトル
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クラス記号
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件数
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水，廃水，下水または汚泥の処理 |
C02 |
23 |
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物理的または化学的方法または装置一般 |
B01 |
5 |
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核物理；核工学 |
G21 |
1 |
法人番号が特定できたデータのうち、過去１０ヵ年分（特許出願日が2013年～2022年）までを収録
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商品及び役務の区分
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区分
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件数
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照明用、加熱用、蒸気発生用、調理用、冷却用、乾燥用、換気用、給水用又は衛生用の装置 |
11 |
11 |
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建設、設置工事及び修理 |
37 |
10 |
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物品の加工その他の処理 |
40 |
10 |
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工業用、科学用又は農業用の化学品 |
01 |
5 |
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科学技術又は産業に関する調査研究及び設計並びに電子計算機又はソフトウェアの設計及び開発 |
42 |
5 |
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電気絶縁用、断熱用又は防音用の材料及び材料用のプラスチック |
17 |
1 |